发明名称 |
一种LED芯片透明电极及其制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种LED芯片透明电极及其制造方法,该透明芯片电极由高透射率的超薄金属掺杂银膜构成,超薄金属掺杂银膜由金属Ag掺杂一定比例的具有高功函数的金属采用共溅射的方式形成,通过控制溅射流量的方法控制金属的掺杂比例,控制溅射的时间可控制超薄金属掺杂银膜的厚度,以此方法形成的超薄金属掺杂银膜为单层金属合金,结构简单,该超薄金属掺杂银膜能与P型半导体形成良好的欧姆接触且具有高的透射率,简化了LED芯片的结构,提高了LED芯片的出光效率。 |
申请公布号 |
CN106449928A |
申请公布日期 |
2017.02.22 |
申请号 |
CN201610952684.4 |
申请日期 |
2016.11.03 |
申请人 |
武汉大学 |
发明人 |
周圣军;刘梦玲;郑晨居;刘星童;高艺霖 |
分类号 |
H01L33/42(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/42(2010.01)I |
代理机构 |
武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 |
代理人 |
汪俊锋 |
主权项 |
一种LED芯片透明电极,为掺杂具有高功函数的金属的超薄银膜,掺杂的原子比为1‑10%。 |
地址 |
430072 湖北省武汉市武昌区珞珈山武汉大学 |