| 发明名称 | 用于PHOLED的具有氮杂‑二苯并噻吩或氮杂‑二苯并呋喃核的新材料 | ||
| 摘要 | 提供新的一类含有氮杂二苯并噻吩或氮杂二苯并呋喃的化合物。这些化合物可以用于有机发光器件中，得到改善的稳定性、改善的效率、长的寿命和低的操作电压。特别是，这些化合物可以用作具有主体和发光掺杂剂的发光层的主体材料，或者作为增强层中的材料。 | ||
| 申请公布号 | CN106397453A | 申请公布日期 | 2017.02.15 |
| 申请号 | CN201610815732.5 | 申请日期 | 2010.01.15 |
| 申请人 | 通用显示公司 | 发明人 | C·林;马斌;R·孔;B·佳特金;W·勇刚;Z·M·埃尔什那威 |
| 分类号 | C07D495/04(2006.01)I;C07D491/048(2006.01)I;C07D519/00(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H01L51/54(2006.01)I | 主分类号 | C07D495/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 宁家成 |
| 主权项 | 下式的化合物：<img file="FDA0001112662320000011.GIF" wi="734" he="207" />其中X<sub>1</sub>、X<sub>2</sub>、X<sub>3</sub>、X<sub>4</sub>、X<sub>5</sub>、X<sub>6</sub>、X<sub>7</sub>和X<sub>8</sub>独立地选自碳原子和氮原子；其中X<sub>1</sub>、X<sub>2</sub>、X<sub>3</sub>、X<sub>4</sub>、X<sub>5</sub>、X<sub>6</sub>、X<sub>7</sub>和X<sub>8</sub>的至少之一为氮原子；其中Y为S或O；其中R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>可以表示单取代、二取代、三取代或四取代；其中R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>独立地选自氢、烷基、芳基和卤素；并且其中R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>的至少之一选自：<img file="FDA0001112662320000012.GIF" wi="1642" he="1391" /><img file="FDA0001112662320000021.GIF" wi="1166" he="750" />其中R’<sub>1</sub>、R’<sub>2</sub>、R’<sub>3</sub>和R’<sub>4</sub>可以表示单取代、二取代、三取代、四取代或五取代；并且其中R’<sub>1</sub>、R’<sub>2</sub>、R’<sub>3</sub>和R’<sub>4</sub>独立地选自氢、烷基、杂烷基、芳基和杂芳基。 | ||
| 地址 | 美国新泽西州 | ||