发明名称 版图中插入填充图形的方法
摘要 本申请公开了一种版图中插入填充图形的方法,包括以下步骤:在每个局部区域的允许插入填充图形的结构中,虚拟地插入标准填充图形。计算该局部区域在虚拟地插入填充图形之后的图形密度,判断其是否大于或等于该局部区域的图形密度的最低要求。如果是,在该局部区域的允许插入填充图形的结构中实际插入该填充图形。如果否,在该局部区域的允许插入填充图形的结构中,虚拟地插入比上一次虚拟插入的填充图形更大的新的填充图形。不断重复直至该局部区域在插入新的填充图形之后的图形密度大于或等于该局部区域的图形密度的最低要求。本申请可以快速地实现在版图中插入填充图形,使得所有局部区域都满足最低的图形密度要求。
申请公布号 CN103853854B 申请公布日期 2017.02.15
申请号 CN201210496239.3 申请日期 2012.11.28
申请人 上海华虹宏力半导体制造有限公司 发明人 李彦正;周京英;孙长江
分类号 G06F17/50(2006.01)I 主分类号 G06F17/50(2006.01)I
代理机构 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人 殷晓雪
主权项 一种版图中插入填充图形的方法,其特征是,包括以下步骤:第1步,读取版图数据,找到每个局部区域中允许插入填充图形的结构;为每一种生产工艺制定一个填充图形的大小与图形密度之间的对应关系的表格;所述表格中记载了从标准填充图形开始各边长递增直至该生产工艺允许的最大填充图形所对应的图形密度;第2步,在每个局部区域的允许插入填充图形的结构中,虚拟地插入标准填充图形;第3步,计算该局部区域在虚拟地插入填充图形之后的图形密度,判断其是否大于或等于该局部区域的图形密度的最低要求;如果是,在该局部区域的允许插入填充图形的结构中实际插入该填充图形;如果否,则将虚拟地插入的填充图形去除,再计算为了满足该局部区域的图形密度的最低要求在该局部区域插入新的填充图形的最低图形密度,新的填充图形的图形密度满足:DYn=(DYS–X/Z)/Ai,DYn为新的填充图形的图形密度,DYS为该局部区域的图形密度的最低要求,X为该局部区域的原始图形所占面积,Z为该局部区域的面积,Ai为该局部区域中允许插入填充图形的结构所占面积占该局部区域的总面积的比值;之后,再进入第4步;第4步,在生产工艺对应的所述表格中找到图形密度大于所述在该局部区域插入新的填充图形的最低图形密度的最小尺寸的填充图形,在该局部区域的允许插入填充图形的结构中虚拟地插入在所述表格中找到的填充图形;重复第3步~第4步,直至该局部区域在插入新的填充图形之后的图形密度大于或等于该局部区域的图形密度的最低要求。
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