发明名称 一种减少水池效应的蚀刻装置
摘要 本实用新型公开了一种减少水池效应的蚀刻装置,包括蚀刻槽、喷管和喷嘴,蚀刻槽内紧密排列有多个平行的滚轮,滚轮上放置有带蚀刻的PCB板,蚀刻槽内安装有平行的管道,且管道设置在滚轮的两侧,喷管连接在平行的两根管道之间,且喷管设置在PCB板的上方,喷管上均匀设置的多个喷嘴到PCB板板面的垂直距离从板中心到板边缘依次递增,板中心流速最快,而边缘的流速最慢;不同的流速设置,可提高板中心蚀刻药水向两侧流动的速度,减少水池效应及蚀刻速率的差异性。本实用新型更容易实现整板的均匀蚀刻,提升细线路制作的能力,从而降低生产成本。
申请公布号 CN205961592U 申请公布日期 2017.02.15
申请号 CN201620860563.2 申请日期 2016.08.10
申请人 汕头超声印制板(二厂)有限公司;汕头超声印制板公司 发明人 陈华丽;林辉;谢丹伟
分类号 H05K3/06(2006.01)I;C23F1/08(2006.01)I 主分类号 H05K3/06(2006.01)I
代理机构 广州市深研专利事务所 44229 代理人 陈雅平
主权项 一种减少水池效应的蚀刻装置,包括蚀刻槽、喷管和喷嘴,所述蚀刻槽内紧密排列有多个平行的滚轮,所述滚轮上放置有带蚀刻的PCB板,其特征在于,所述蚀刻槽内安装有平行的管道,且管道设置在滚轮的两侧,所述喷管连接在平行的两根管道之间,且喷管设置在PCB板的上方,所述喷管上均匀设置有多个喷嘴,所述的喷嘴位于PCB板的上方,所述的喷嘴到PCB板板面的垂直距离从PCB板中心依次向两边递增。
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