| 摘要 |
resumo películas de barreira de óxido de metal misto e método de deposição de camada atômica para preparar películas de barreira de óxido de metal misto um método de formar uma película fina de camada de barreira (100) de um óxido de metal misto, tal como uma mistura de alumínio, titânio, e oxigênio (altio), compreende exposição sequencial de um substrato (110) tendo uma temperatura de superfície inferior a 100ºc para um precursor de haleto, um plasma de oxigênio, e um precursor metal orgânico. películas de barreira formadas pelo método exibem taxa de transmissão de vapor de água (wvtr) melhorada sobre as películas individuais de óxido de metal e nanolaminados de dois óxidos de metal tendo uma espessura total similar. 1/1 |
