Nozzle and Apparatus for treating Substrate with the nozzle

摘要

본 발명은 노즐에 관한 것이다. 본 발명에 의한 노즐은, 내부에 액이 흐르는 액 토출 라인 및 상기 액 토출 라인을 감싸며 가스가 흐르는 가스 토출 라인이 형성된 몸체를 구비하되, 상기 몸체에는, 상기 액 토출 라인을 통해 흐르는 액을 토출하는 복수 개의 액 토출구와, 상기 가스 토출 라인을 통해 흐르는 가스를 토출하는 가스 토출구가 제공된다.