发明名称 |
ADVANCED ELECTRONIC DEVICE STRUCTURES USING SEMICONDUCTOR STRUCTURES AND SUPERLATTICES |
摘要 |
반도체 구조물과 이 반도체 구조물을 형성하는 방법이 개시된다. 예를 들어, p-형 또는 n-형 반도체 구조물이 개시된다. 상기 반도체 구조물은 상기 극성 결정 구조의 자발적인 분극 축과 실질적으로 평행한 성장 축을 갖는 극성 결정 구조를 구비한다. 상기 반도체 구조물은 더 넓은 대역 갭(WBG) 물질로부터 더 좁은 대역 갭(NBG) 물질로 또는 NBG 물질로부터 WBG 물질로 조성이 변하여 상기 성장 축을 따라 p-형 또는 n-형 전도성을 유도한다. |
申请公布号 |
KR20170013247(A) |
申请公布日期 |
2017.02.06 |
申请号 |
KR20167033172 |
申请日期 |
2015.05.01 |
申请人 |
더 실라나 그룹 피티와이 리미티드 |
发明人 |
아타나크코빅, 피터;가드프리, 매튜 |
分类号 |
H01L33/00;H01L21/02;H01L33/06;H01L33/10;H01L33/14;H01L33/18;H01L33/32 |
主分类号 |
H01L33/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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