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发明名称
高分子素子の製造方法、導電性積層構造体の製造方法、集電層の製造方法、高分子素子、アクチュエータ素子、センサ素子および導電性積層構造体
摘要
【課題】高分子素子の電極層に集電層を形成する場合に湾曲変位に対する負荷を軽減して集電層の効果を十分に発揮できるようにすること。【解決手段】本発明は、電解質層と、電解質層を間にして設けられた一対の電極層と、一対の電極層のそれぞれに設けられた集電層と、を備える高分子素子の製造方法であって、電解質層に一対の電極層を形成した積層部材を形成する工程と、積層部材の少なくとも一方の表面を伸張させる工程と、伸張した表面に露出する電極層に集電層を形成する工程と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図1
申请公布号
JP2017028769(A)
申请公布日期
2017.02.02
申请号
JP20150142108
申请日期
2015.07.16
申请人
アルプス電気株式会社
发明人
高橋 功
分类号
H02N11/00
主分类号
H02N11/00
代理机构
代理人
主权项
地址
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