发明名称 |
一种用于硅片清洗的酸性超声波清洗剂 |
摘要 |
一种用于硅片清洗的酸性超声波清洗剂,涉及硅材料加工技术领域,由以下重量份的原料制成:丙醇80‑86份、苯酚15‑25份、羧甲基纤维素钠2‑4份、椰油酸6‑8份、胶体粒子15‑25份、烷基磺酸钠2‑4份、焦磷酸钾6‑8份、滑石粉15‑25份、醋酸20‑30份、柠檬酸6‑8份、葡糖酸洗必太3‑5份、葡庚糖酸钠2‑4份、去离子水850‑860份。本发明的有益效果是:本发明制备方法简单,配方合理,制备的清洗剂,配合超声波清洗技术,能高效去除附着硅片上的各种污垢,效果良好,不会产生残留,无污染,清洗效果显著,原料易得,成本低下。 |
申请公布号 |
CN106336953A |
申请公布日期 |
2017.01.18 |
申请号 |
CN201610714671.3 |
申请日期 |
2016.08.24 |
申请人 |
安徽正田能源科技有限公司 |
发明人 |
吕凤岗;程林;曹来福;戴珍旭;胡正田 |
分类号 |
C11D1/14(2006.01)I;C11D3/04(2006.01)I;C11D3/06(2006.01)I;C11D3/08(2006.01)I;C11D3/20(2006.01)I;C11D3/60(2006.01)I |
主分类号 |
C11D1/14(2006.01)I |
代理机构 |
安徽信拓律师事务所 34117 |
代理人 |
张加宽 |
主权项 |
一种用于硅片清洗的酸性超声波清洗剂,其特征在于,由以下重量份的原料制成:丙醇80‑86份、苯酚15‑25份、羧甲基纤维素钠2‑4份、椰油酸6‑8份、胶体粒子15‑25份、烷基磺酸钠2‑4份、焦磷酸钾6‑8份、滑石粉15‑25份、醋酸20‑30份、柠檬酸6‑8份、葡糖酸洗必太3‑5份、葡庚糖酸钠2‑4份、去离子水850‑860份。 |
地址 |
239300 安徽省滁州市天长市经济开发区纬三路128号 |