| 发明名称 |
基板処理装置 |
| 摘要 |
本発明の一実施形態によると，基板処理装置は，基板に対する工程が行われる内部空間を提供するチャンバと，前記内部空間に設置されて上部に前記基板が置かれるサセプタと，前記サセプタの周りに沿って前記チャンバの側壁に形成された排気ポートの上に設置されて複数の貫通孔を有する固定プレートと，前記固定プレートの上部または下部に設置されて前記サセプタの中心を基準に回転可能であり，前記貫通孔を選択的に開閉する一つ以上のスライディングプレートと，を含む。【選択図】図２ |
| 申请公布号 |
JP2017501569(A) |
申请公布日期 |
2017.01.12 |
| 申请号 |
JP20160536239 |
申请日期 |
2014.12.10 |
| 申请人 |
ユ−ジーン テクノロジー カンパニー．リミテッド |
发明人 |
ジェ，ソン−テ;イ，ジェ−ホ;チェ，サン−ホ;ユン，スン−ヒョン |
| 分类号 |
H01L21/31;C23C16/52;H01L21/683 |
主分类号 |
H01L21/31 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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