偽造防止構造体及びその製造方法

摘要

偽造防止構造体（１０）は、幅に対する深さの比である深さ幅比が第１の値以上の凹凸構造を含む光学素子を有する第一の領域（１３）と、深さ幅比が前記第１の値未満の凹凸構造を含む光学素子を有する第二の領域（１４）とを備えた微細凹凸形成層（１１）を備える。第一の領域（１３）は、第二の領域（１４）よりも高い光透過率を有する。偽造防止構造体（１０）はさらに、第一の領域（１３）が含む凹凸構造の凹部に充填された微粒子（１５）と、第二の領域（１４）が含む凹凸構造上に配置された反射層（１２）とを備える。