溅镀标靶馈入系统

摘要

一种装置，包括电弧室外壳(203)及馈入系统(210)。电弧室外壳定义电弧室(204)。馈入系统经组态以馈入溅镀标靶(212)至电弧室。一种方法，包括馈入溅镀标靶至电弧室以及离子化溅镀标靶的一部分，其中电弧室藉由电弧室外壳定义。

主权项

一种用于离子源的装置，其特征在于，所述装置分别在第一溅镀模式、第二溅镀模式和间接加热阴极模式下操作，所述用于离子源的装置包括：电弧室外壳，定义电弧室，所述电弧室外壳具有第一孔隙、第二孔隙、第一盖体和第二盖体，所述第一盖体相对于所述第一孔隙在开启位置和关闭位置之间为可驱动的，所述第二盖体相对于所述第二孔隙在开启位置和关闭位置之间为可驱动的；馈入系统，经组态以通过所述第一孔隙使第一溅镀标靶馈入至所述电弧室，并且经组态以通过所述第二孔隙使第二溅镀标靶馈入至所述电弧室，当所述第一溅镀标靶或所述第二溅镀标靶被馈入至所述电弧室时，所述馈入系统进一步地经组态以使得所述第一溅镀标靶或所述第二溅镀标靶绕着各自的轴旋转，当所述第一溅镀标靶或所述第二溅镀标靶设置在所述电弧室中且不被进一步地驱动至所述电弧室内时，所述第一溅镀标靶或所述第二溅镀标靶可旋转；阴极，固定地设置在所述电弧室内在所述第一溅镀标靶以及所述第二溅镀标靶的第一侧上；以及反射极，设置在所述电弧室内在所述第一溅镀标靶以及所述第二溅镀标靶的与所述第一侧相对的第二侧上，所述阴极和所述反射极经组态以产生在所述阴极和所述反射极之间在垂直于所述第一溅镀标靶以及所述第二溅镀标靶的所述轴的方向上延伸的等离子体，其中所述第一溅镀标靶以及所述第二溅镀标靶具有圆柱形形状，且所述第一孔隙以及所述第二孔隙具有圆形形状以接收所述圆柱形形状，当正在所述第一溅镀模式操作所述离子源时，所述第一盖体在开启位置，且其中所述馈入系统经组态以馈入所述第一溅镀标靶通过所述第一孔隙至所述电弧室，当正在所述第二溅镀模式操作所述离子源时，所述第二盖体在开启位置且所述第一盖体在关闭位置，且其中所述馈入系统经组态以馈入所述第二溅镀标靶通过所述第二孔隙至所述电弧室，且当正在所述间接加热阴极模式操作所述装置时，所述馈入系统经组态以从所述电弧室移出所述第一溅镀标靶与所述第二溅镀标靶，所述第一盖体与所述第二盖体在关闭位置。