| 发明名称 | 一种准分子激光退火装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型的准分子激光退火装置，包括激光头和反射装置，激光头产生的激光光束照射基板形成入射光束和出射光束，在出射光束方向上设置反射装置，反射装置的反射面朝向基板。通过光路反射，充分利用了准分子激光的反射能量，对低温多晶硅的基板形成二次甚至多次照射，充分利用激光束的能量，使得多晶硅的基板产出耗时降低。进一步使得晶硅的结晶速率得以调整，可以形成更合理的结晶晶粒规格。 | ||
| 申请公布号 | CN205692801U | 申请公布日期 | 2016.11.16 |
| 申请号 | CN201620660437.2 | 申请日期 | 2016.06.29 |
| 申请人 | 昆山国显光电有限公司 | 发明人 | 李辉 |
| 分类号 | H01L21/268(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/268(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京布瑞知识产权代理有限公司 11505 | 代理人 | 孟潭 |
| 主权项 | 一种准分子激光退火装置，包括激光头(01)和反射装置(02)，激光头(01)产生的激光光束照射基板形成入射光束和出射光束，在出射光束方向上设置反射装置(02)，反射装置(02)的反射面朝向基板。 | ||
| 地址 | 215300 江苏省苏州市昆山市开发区龙腾路1号4幢 | ||