| 发明名称 | 具有自组织化膜的薄膜层合体 | ||
| 摘要 | 本发明的课题涉及提供一种底涂层，所述底涂层与基体的密合性优异，并且还可以在表面形成自组织化膜·单分子膜，本发明的课题还涉及提供一种硬度、耐溶剂性、润滑性、滑动性、低摩擦性等功能优异的成型体。本发明的薄膜层合体为在基体上以第一层、第二层的顺序形成的薄膜层合体，其中，第一层为含有下述a)、下述b)的有机无机复合薄膜，a)为式(I)R<sub>n</sub>SiX<sub>4－n</sub>(I)(式中，R表示碳原子直接键合于Si的有机基团，X表示羟基或水解性基团。n表示1或2，n为2时各R可以相同也可以不同，(4－n)为2以上时各X可以相同也可以不同。)表示的有机硅化合物的缩合物，b)为热固性化合物的固化物，第二层为含有自组织化膜的层，所述自组织化膜为金属表面活性剂的水解缩合物。 | ||
| 申请公布号 | CN104428135B | 申请公布日期 | 2016.11.16 |
| 申请号 | CN201380036086.7 | 申请日期 | 2013.07.05 |
| 申请人 | 日本曹达株式会社 | 发明人 | 佐藤元树;岩佐淳司 |
| 分类号 | B32B9/00(2006.01)I;C03C17/42(2006.01)I;C08G77/04(2006.01)I | 主分类号 | B32B9/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 杨宏军;牛蔚然 |
| 主权项 | 一种薄膜层合体，其为在基体上以第一层、第二层的顺序形成的薄膜层合体，其特征在于，第一层为含有下述a)、下述b)的有机无机复合薄膜，a)式(I)表示的有机硅化合物的缩合物，R<sub>n</sub>SiX<sub>4－n</sub> (I)式(I)中，R表示碳原子直接键合于Si的有机基团，X表示羟基或水解性基团，n表示1或2，n为2时各R可以相同也可以不同，(4－n)为2以上时各X可以相同也可以不同，b)选自环氧树脂和不饱和聚酯树脂中的至少1种的热固性化合物的热固化物，所述a)和b)的质量比为25:75～5:95，第二层为含有自组织化膜的层，所述自组织化膜为金属表面活性剂的水解缩合物。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||