| 发明名称 | 内燃机用气缸体及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及内燃机用气缸体(10)及其制造方法。在内燃机用气缸体(10)中，在缸膛(12)的内壁形成有SiC中间膜(20)和DLC膜(22)。在将SiC中间膜(20)的膜厚设为T1、将DLC膜(22)的膜厚设为T2时，下述的式(1)～式(3)成立。需要说明的是，优选0.2μm≤T1≤1μm、7μm≤T1+T2≤13μmT1≥0.2μm…(1)T1<T2…(2)T1+T2≥7μm…(3)。 | ||
| 申请公布号 | CN106062348A | 申请公布日期 | 2016.10.26 |
| 申请号 | CN201580011627.X | 申请日期 | 2015.03.03 |
| 申请人 | 本田技研工业株式会社 | 发明人 | 小林幸司;神志那薰;吉本信彦;船津纯矢 |
| 分类号 | F02F1/00(2006.01)I;C23C16/27(2006.01)I;C23C16/42(2006.01)I;F16J10/00(2006.01)I | 主分类号 | F02F1/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 庞东成;孟伟青 |
| 主权项 | 一种内燃机用气缸体(10)，该内燃机用气缸体(10)由铝合金构成，缸膛(12)的内壁被类金刚石碳膜(22)所被覆，该内燃机用气缸体(10)的特征在于，在所述内壁与所述类金刚石碳膜(22)之间形成有SiC中间膜(20)，在将所述SiC中间膜(20)的膜厚设为T1、将所述类金刚石碳膜(22)的膜厚设为T2时，下述的式(1)～式(3)成立，T1≥0.2μm…(1)T1<T2…(2)T1+T2≥7μm…(3)。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||