发明名称 氧化铝抛光液配置装置
摘要 本实用新型公开了一种氧化铝抛光液配置装置,该装置包括用于配制氧化铝抛光液的物料桶、搅拌装置、粒径分级装置、过滤装置、超声池、PH测试口和辅料添加口;所述物料桶置于所述超声池上面;所述物料桶的盖子上设有PH测试口、辅料添加口、连接抛光粉粒径分级装置并且其底部设有带过滤装置的出料口。所述物料桶的内部设有搅拌器。本实用新型的氧化铝抛光液配置装置可以提高生产效率和产品质量,提高晶片表面抛光质量。
申请公布号 CN205613356U 申请公布日期 2016.10.05
申请号 CN201620061718.6 申请日期 2016.01.15
申请人 天津西美半导体材料有限公司 发明人 董云娜
分类号 B01F13/10(2006.01)I;B01F15/02(2006.01)I;B07B13/00(2006.01)I;C09K3/14(2006.01)I 主分类号 B01F13/10(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 氧化铝抛光液配置装置,其特征在于,该装置包括物料桶、搅拌装置、粒径分级装置、过滤装置、超声池、PH测试口和辅料添加口;所述的物料桶置于超声池内部,底部连接有过滤装置,内部包括搅拌装置,上部连接粒径分级装置、PH测试口和辅料添加口。
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