发明名称 |
氧化铝抛光液配置装置 |
摘要 |
本实用新型公开了一种氧化铝抛光液配置装置,该装置包括用于配制氧化铝抛光液的物料桶、搅拌装置、粒径分级装置、过滤装置、超声池、PH测试口和辅料添加口;所述物料桶置于所述超声池上面;所述物料桶的盖子上设有PH测试口、辅料添加口、连接抛光粉粒径分级装置并且其底部设有带过滤装置的出料口。所述物料桶的内部设有搅拌器。本实用新型的氧化铝抛光液配置装置可以提高生产效率和产品质量,提高晶片表面抛光质量。 |
申请公布号 |
CN205613356U |
申请公布日期 |
2016.10.05 |
申请号 |
CN201620061718.6 |
申请日期 |
2016.01.15 |
申请人 |
天津西美半导体材料有限公司 |
发明人 |
董云娜 |
分类号 |
B01F13/10(2006.01)I;B01F15/02(2006.01)I;B07B13/00(2006.01)I;C09K3/14(2006.01)I |
主分类号 |
B01F13/10(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
氧化铝抛光液配置装置,其特征在于,该装置包括物料桶、搅拌装置、粒径分级装置、过滤装置、超声池、PH测试口和辅料添加口;所述的物料桶置于超声池内部,底部连接有过滤装置,内部包括搅拌装置,上部连接粒径分级装置、PH测试口和辅料添加口。 |
地址 |
300384 天津市西青区精武镇永红工业园天津西美科技有限公司 |