发明名称 |
通过浸入式光刻机进行光刻的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种通过浸入式光刻机进行光刻的方法,包括:光刻所用的光垂直向下入射,射入液体槽,首先到达凸透镜,经由凸透镜之后的光刻掩膜,之后到达准直装置,进行准直过程;光路在被准直之后,到达第三折射镜,被第三折射镜折射,直至其到达凹面折射镜;光路被凹面折射镜折射之后,到达凹面折射镜的焦点之处的凸面折射镜,又被折射回凹面折射镜;光路第二次被凹面折射镜折射后,到达第四折射镜,被第四折射镜折射之后,沿垂直方向打入位于工作台上的晶圆;步骤5、运行第一移动装置和第二移动装置,依次对晶圆上的每个晶粒进行光刻。本发明所述的装置,将光路系统整个浸入折射率为1.4液体中,可以增加光刻精度。 |
申请公布号 |
CN105974749A |
申请公布日期 |
2016.09.28 |
申请号 |
CN201610555452.5 |
申请日期 |
2016.07.13 |
申请人 |
无锡宏纳科技有限公司 |
发明人 |
吕耀安 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
无锡华源专利商标事务所(普通合伙) 32228 |
代理人 |
聂汉钦 |
主权项 |
一种通过浸入式光刻机进行光刻的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1、光刻所用的光垂直向下入射,射入液体槽(10),首先到达凸透镜(1),经由凸透镜(1)之后的光刻掩膜(2),之后到达准直装置(3),进行准直过程;步骤2、光路在被准直之后,到达第三折射镜(4),被第三折射镜(4)折射,沿水平方向发射,直至其到达凹面折射镜(6);步骤3、光路被凹面折射镜(6)折射之后,到达凹面折射镜(6)的焦点之处的凸面折射镜(5),又被折射回凹面折射镜(6);步骤4、光路第二次被凹面折射镜(6)折射后,到达第四折射镜(7),被第四折射镜(7)折射之后,沿垂直方向打入位于工作台上的晶圆;步骤5、运行第一移动装置(8)和第二移动装置(9),固定在第二移动装置(9)之上的第三折射镜(4)和固定在第一移动装置(8)之上的第四折射镜(7)的都随之移动,精确调整光路位置,则光路的出射位置随之移动,依次对晶圆上的每个晶粒进行光刻。 |
地址 |
214000 江苏省无锡市新区清源路20号太湖国际科技园传感网大学科技园立业楼D区一楼 |