| 发明名称 | 阵列基板及其制作方法、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，所述制作方法包括：在衬底基板上的预设位置形成隔垫图形；在所述隔垫图形上形成第一导电图形；在形成有所述第一导电图形的衬底基板上形成包括有过孔的绝缘层；在所述绝缘层上形成第二导电图形，所述第一导电图形与所述第二导电图形通过贯穿所述绝缘层的过孔连接，所述过孔在所述衬底基板上的正投影与所述隔垫图形在所述衬底基板上的正投影至少部分重合。本发明的技术方案能够避免出现Mura不良，改善显示装置的显示效果。 | ||
| 申请公布号 | CN105977267A | 申请公布日期 | 2016.09.28 |
| 申请号 | CN201610585610.1 | 申请日期 | 2016.07.22 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 | 发明人 | 程翔宇;周波 |
| 分类号 | H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 刘伟;张博 |
| 主权项 | 一种阵列基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：在衬底基板上的预设位置形成隔垫图形；在所述隔垫图形上形成第一导电图形；在形成有所述第一导电图形的衬底基板上形成包括有过孔的绝缘层；在所述绝缘层上形成第二导电图形，所述第一导电图形与所述第二导电图形通过贯穿所述绝缘层的过孔连接，所述过孔在所述衬底基板上的正投影与所述隔垫图形在所述衬底基板上的正投影至少部分重合。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||