| 发明名称 | 具有低摩擦垫的物理气相沉积(PVD)靶材 | ||
| 摘要 | 本文提供用于基板处理腔室的靶材组件的实施方式。在一些实施方式中，靶材组件包括：板，所述板包含包括部分及支撑部分的第一侧面；靶材，所述靶材设置于所述部分上；多个凹槽，所述多个凹槽形成于所述支撑部分中；及多个垫，所述多个垫部分地设置于所述多个凹槽中。 | ||
| 申请公布号 | CN105874565A | 申请公布日期 | 2016.08.17 |
| 申请号 | CN201480061815.9 | 申请日期 | 2014.11.11 |
| 申请人 | 应用材料公司 | 发明人 | 马丁·李·莱克;乌代·帕伊;威廉·弗鲁赫特曼;基思·A·米勒;穆罕默德·M·拉希德;清·X·源;希兰库玛·萨万戴亚 |
| 分类号 | H01L21/203(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/203(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人 | 徐金国;赵静 |
| 主权项 | 一种用于基板处理腔室的靶材组件，所述靶材组件包含：板，包含包括中央部分及支撑部分的第一侧面，其中所述中央部分被配置以支撑靶材源材料；多个凹槽，形成于所述支撑部分中；及多个垫，部分设置于所述多个凹槽中。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||