感光性聚硅氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件

摘要

本发明涉及感光性聚硅氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件。一种感光性聚硅氧烷组成物，包含聚硅氧烷组分(A)、醌二叠氮系化合物(B)、芴衍生物组分(C)及溶剂(D)。该聚硅氧烷组分(A)包括至少一具有至少一个烯基的聚硅氧烷高分子。该芴衍生物组分(C)包括至少一具有至少一个含双键基团的芴衍生物。由该感光性聚硅氧烷组成物所形成的保护膜具有较佳的耐化学性及耐显影性。

主权项

一种感光性聚硅氧烷组成物，其特征在于包含：聚硅氧烷组分(A)，包括至少一个具有至少一个烯基的聚硅氧烷高分子；醌二叠氮系化合物(B)；芴衍生物组分(C)，包括至少一个具有至少一个含双键基团的芴衍生物；及溶剂(D)，其中所述具有至少一个烯基的聚硅氧烷高分子是由硅烷单体组分经缩合反应而得的聚合物，且该硅烷单体组分包括式(a)所示的硅烷单体及式(a‑1)所示的硅烷单体，且于式(a)中，(R^a)_kSi(OR^b)_4‑k    式(a)，k表示1至3的整数，且当k表示2或3时，多个R^a各自为相同或不同；至少一个R^a表示C₂至C₁₀的烯基，且其余R^a表示氢、C₁至C₁₀的烷基、经酸酐基取代的C₁至C₁₀烷基、经环氧基取代的C₁至C₁₀烷基、经环氧基取代的烷氧基，或C₆至C₁₅的芳香基，R^b表示氢、C₁至C₆的烷基、C₁至C₆的酰基，或C₆至C₁₅的芳香基，且当4‑k表示2或3时，多个R^b各自为相同或不同；于式(a‑1)中，(R^c)_zSi(OR^d)_4‑z   式(a‑1)，z表示1至3的整数，且当z表示2或3时，多个R^c各自为相同或不同；R^c表示氢、C₁至C₁₀的烷基、经酸酐基取代的C₁至C₁₀烷基、经环氧基取代的C₁至C₁₀烷基、经环氧基取代的烷氧基，或C₆至C₁₅的芳香基，其中至少一个R^c是乙基丁二酸酐、丙基丁二酸酐，或丙基戊二酸酐，R^d表示氢、C₁至C₆的烷基、C₁至C₆的酰基，或C₆至C₁₅的芳香基，且当4‑z表示2或3时，多个R^d各自为相同或不同，其中基于所述聚硅氧烷组分(A)的总量为100重量份，所述醌二叠氮系化合物(B)的使用量是1重量份至50重量份，所述芴衍生物组分(C)的使用量范围为5重量份至120重量份，及所述溶剂(D)的使用量是50重量份至1200重量份。