| 发明名称 | 用于去除表面上的残余物的清洗调配物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及清洗组合物，其含有：1)HF；2)经取代或未经取代的硼酸；3)硫酸铵；4)至少一种金属腐蚀抑制剂；5)水；和6)任选地，至少一种pH调节剂，该pH调节剂是不含金属离子的碱。本发明也涉及使用上述组合物清洗半导体基板的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN105814183A | 申请公布日期 | 2016.07.27 |
| 申请号 | CN201480067111.2 | 申请日期 | 2014.12.09 |
| 申请人 | 富士胶片电子材料美国有限公司 | 发明人 | E·A·克内尔 |
| 分类号 | C11D7/32(2006.01)I | 主分类号 | C11D7/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人 | 方志炜 |
| 主权项 | 清洗组合物，其含有：1)HF；2)经取代或未经取代的硼酸；3)硫酸铵；4)至少一种金属腐蚀抑制剂；5)水；和6)任选地，至少一种pH调节剂，该pH调节剂是不含金属离子的碱。 | ||
| 地址 | 美国罗得岛州 | ||