一种背面对准测量装置及方法

摘要

本发明提出一种硅片对准测量系统，包括：工件台，用于支撑所述硅片；光源，用于照射所述硅片上的对准标记；图像探测单元，用于获取所述对准标记的透射成像信息，其特征在于，所述工件台带有光源通道，所述光源通道用于使所述光源发出的光线无遮挡地通过；所述光源在所述硅片和所述工件台的一侧；所述图像探测单元在所述硅片和所述工件台的另一侧。本发明还提出一种背面对准测量方法。本发明采用透射式红外对准光源穿透硅片，直接把硅片背面标记成像在镜头物面，可有效避免反射式红外对准工艺适应性差的弊端。采用旋转式chuck台，不同于背面中继镜头对准方式，对准标记数目不受限制，对准精度有极大提高。

主权项

一种硅片对准测量系统，包括：工件台，用于支撑所述硅片；光源，用于照射所述硅片上的对准标记；图像探测单元，用于获取所述对准标记的透射成像信息，其特征在于，所述工件台带有光源通道，所述光源通道用于使所述光源发出的光线无遮挡地通过；所述光源在所述硅片和所述工件台的一侧；所述图像探测单元在所述硅片和所述工件台的另一侧。