石墨烯电磁线圈的CVD成膜方法

摘要

石墨烯电磁线圈的CVD成膜方法。根据电磁线圈的具体应用要求，选择合适的基底材料(这些材料可以是镍、铜、二氧化硅、PET中的一种或两种以上的组合)；将基底材料按需要加工成合适的形状，例如圆形、矩形、多边形；根据所用石墨烯的亲/疏水性，选择与其性能相反的疏/亲水涂料，在基底材料的表面丝印与线圈图形相反的图案——线圈的绝缘空间；将制作好的基底材料置于CVD反应室内，进行CVD成膜；根据CVD反应的实际工况和对石墨烯膜层厚度的要求，控制反应时间，得到满足设计要求的石墨烯膜；去除涂料；采用导电性能良好的金属(铜或银)在制作完成的石墨烯线圈的两个端点制作接线端子，形成完整的石墨烯线圈。

主权项

石墨烯电磁线圈的CVD成膜方法。其特征是：选择合适的基底材料(这些材料可以是镍、铜、二氧化硅、PET中的一种或两种以上的组合)，根据所用石墨烯的亲/疏水性，选择与其性能相反的疏/亲水涂料，在基底材料的表面丝印与线圈图形相反的图案——线圈的绝缘空间；将制作好的基底材料置于CVD反应室内，进行CVD成膜；根据CVD反应的实际工况和对石墨烯膜层厚度的要求，控制反应时间，得到满足设计要求的石墨烯膜；去除涂料，形成完整的石墨烯线圈；采用导电性能良好的金属(铜或银)在制作完成的石墨烯线圈的两个端点制作接线端子。