发明名称 WET PROCESSING APPARATUS
摘要 적은 양의 세정액으로 웨이퍼를 효율적으로 세정할 수 있고, 효율적으로 가열 웨트 세정 처리할 수 있는 웨이퍼 세정기 및 그 방법을 제공한다. 본 발명은, 웨이퍼(W)가 설치되는 스테이지(34)와, 스테이지(34)를 주위 방향으로 회전시키는 회전 구동부(34b)와, 스테이지(34)에 설치된 웨이퍼(W)에 대향하여 설치되고, 스테이지(34)에 설치된 웨이퍼(W) 상에 세정액(L)을 공급하는 액 토출 노즐(35)과, 스테이지(34)에 설치된 웨이퍼(W)와 액 토출 노즐(35)의 사이의 공간(S)에, 이 공간(S)을 채우는 소정량의 세정액(L)을 액 토출 노즐(35)로부터 공급시키는 컨트롤 유닛(4)을 구비한다. 또한, 스테이지(34)에 설치된 웨이퍼(W)에 면한 위치에 설치되고, 적어도 웨이퍼(W)와 세정기(L)와의 계면 부분을 가열하는 램프(34e)를 구비한다.
申请公布号 KR20160084459(A) 申请公布日期 2016.07.13
申请号 KR20167015664 申请日期 2014.12.01
申请人 NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCEAND TECHNOLOGY 发明人 HARA SHIRO;KHUMPUANG SOMMAWAN;IKEDA SHINICHI;GOTO AKIHIRO;AMANO HIROSHI
分类号 H01L21/02;H01L21/324;H01L21/67;H01L21/687 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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