发明名称 |
用于基于多光子电离的皮肤处理的皮肤处理设备 |
摘要 |
本发明提供一种用于在皮肤组织(102)中的目标位置(110)产生多光子电离过程的非侵入性皮肤处理设备(200)。所述皮肤处理设备(200)包括被配置和构造用于产生激光束(106)的激光源(105),将所述激光束聚焦到皮肤表面(103)下方的目标位置的光学系统(109、112),以及等离子体单元(117),其被配置和构造用于产生等离子体(100)使得,在使用中,等离子体的至少一部分穿透所述皮肤组织,用于在目标位置生成至少一个自由电子。皮肤处理设备还包括控制单元(123),其被配置和构造成用于控制所述激光源和所述等离子体单元使得,在使用中,激光束的光的至少一部分被在所述目标位置产生的所述至少一个自由电子吸收,由此产生多光子电离过程。在产生多光子电离过程中利用等离子体的结果是,产生多光子电离过程所需的整体激光束强度,与仅使用激光束产生多光子电离过程的皮肤处理设备相比被减少。 |
申请公布号 |
CN105722472A |
申请公布日期 |
2016.06.29 |
申请号 |
CN201480061808.9 |
申请日期 |
2014.10.29 |
申请人 |
皇家飞利浦有限公司 |
发明人 |
B·瓦尔格斯;R·维哈根;M·朱纳;J·A·帕勒洛;M·R·霍顿;V·伯尼托 |
分类号 |
A61B18/20(2006.01)I;A61B18/04(2006.01)I;A61B18/00(2006.01)I |
主分类号 |
A61B18/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京市金杜律师事务所 11256 |
代理人 |
郑立柱 |
主权项 |
一种皮肤处理设备(200),用于在皮肤组织(102)中的目标位置(110)产生多光子电离过程,所述皮肤处理设备(200)包括:激光源(105),其被配置并构造为用于产生处理激光束(106);光学系统(109、112),其被配置并构造为使得,在使用时,所述处理激光束(106)被聚焦到所述皮肤组织(102)中的所述目标位置(110)的焦斑内,等离子体单元(117),其被配置并构造为用于产生等离子体(100)使得,在使用中,所述等离子体(100)的至少一部分穿透所述皮肤组织(102),并且在所述皮肤组织(102)中的所述目标位置(110)生成至少一个自由电子,和控制单元(123),其被配置并构造为用于控制所述激光源(105)和所述等离子单元(117),其特征在于,所述激光源(105)和所述光学系统(109、112)被配置并构造成使得,在使用时,在所述皮肤组织(102)中的所述焦斑内的所述处理激光束(106)的功率密度(W/cm<sup>2</sup>)低于用于所述皮肤组织(102)的第一功率密度阈值(I<sub>th1</sub>),高于该第一功率密度阈值,自由电子在所述皮肤组织(102)内通过吸收存在于所述处理激光束(106)中的光子而产生,并且在所述焦斑内的所述处理激光束(106)的功率密度(W/cm<sup>2</sup>)高于用于所述皮肤组织(102)的第二功率密度阈值(I<sub>th2</sub>),高于该第二功率密度阈值雪崩电离过程在所述皮肤组织(102)内由存在于所述处理激光束(106)中的光子的自由电子通过逆轫致辐射吸收而产生。 |
地址 |
荷兰艾恩德霍芬市 |