刻蚀机台的结构及刻蚀方法

摘要

本发明公开了一种刻蚀机台的结构，在刻蚀机台原有腔体结构基础上再增加至少一个对准腔。本发明还公开了基于上述改装后的刻蚀机台的刻蚀方法，该方法首先让硅片通过刻蚀机台原有的对准腔进行对准，然后在主刻蚀腔中进行刻蚀工艺；刻蚀完成后，再让硅片进入新增加的对准腔进行对准，然后再次进入主刻蚀腔刻蚀，并视新增加的对准腔的个数，重复对准、刻蚀步骤。本发明通过在刻蚀机台增加对准腔，并根据刻蚀速率分布情况适当修改刻蚀作业的顺序，将原来的一步刻蚀分为多步刻蚀进行，如此使不均匀的刻蚀量形成了互补，从而有效地提高了刻蚀工艺的面内均一性。

主权项

一种刻蚀方法，其特征在于，包括以下步骤：1)硅片首先通过刻蚀机台原有的对准腔进行对准，然后在主刻蚀腔中进行刻蚀工艺；2)步骤1)的刻蚀完成后，硅片进入新增加的对准腔进行对准，然后再进入主刻蚀腔再次进行刻蚀工艺；3)根据新增加的对准腔的个数，重复进行步骤2)。