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Es wird ein Verfahren zum Ermitteln eines lateralen Versatzes eines Musters auf einem Substrat relativ zu einer Sollposition, bereitgestellt, das folgende Schritte aufweist: a) Bereitstellen mehrerer Messbilder des Musters, die mit einer optischen Aufnahmeeinheit in verschiedenen Aufnahmedefokuspositionen entlang einer Fokussierrichtung der Aufnahmeeinheit erstellt wurden, wobei die Aufnahmedefokuspositionen äquidistant mit einer vorbestimmten Schrittweite sind, b) Erstellen mehrerer Simulationsbilder, die die Aufnahme des Musters mit der optischen Aufnahmeeinheit in verschiedenen Simulationsdefokuspositionen in der Fokussierrichtung simulieren, wobei bei der Erstellung der Simulationsbilder mindestens eine optische Aberration der Aufnahmeeinheit berücksichtigt wird und die Simulationsdefokuspositionen äquidistant mit der vorbestimmten Schrittweite sind, c) Bilden von mehreren ersten Paaren, die jeweils ein Messbild und ein Simulationsbild aufweisen, wobei jedes erste Paar denselben ersten Fokusabstand ihrer Defokuspositionen aufweist, und Ermitteln eines ersten lateralen Abstandes der Muster für jedes erste Paar, d) Ermitteln einer ersten Fitgeraden basierend auf den ermittelten ersten lateralen Abständen, e) Bilden von mehreren zweiten Paaren, die jeweils ein Messbild und ein Simulationsbild aufweisen, wobei jedes zweite Paar denselben zweiten Fokusabstand ihrer Defokuspositionen aufweist, der verschieden ist zum ersten Fokusabstand der ersten Paare, und Ermitteln eines zweiten lateralen Abstandes der Muster für jedes zweite Paar, f) Ermitteln einer zweiten Fitgeraden basierend auf den ermittelten zweiten lateralen Abständen, g) Ermitteln des lateralen Versatzes des Musters auf dem Substrat relativ zur Sollposition unter Verwendung der Fitgeraden gemäß Schritt d) und f). |
