| 摘要 |
Es wird ein Verfahren zum Herstellen eines photoempfindlichen Glassubstrats geschaffen, wobei das Verfahren umfasst: direktes Bestrahlen eines plattenähnlichen Basismaterials, das aus einem photoempfindlichen Glas gebildet ist, mit einem Energiestrahlenbündel, um ein latentes Bild zu erzeugen; Kristallisieren des latenten Bildes durch eine erste Wärmebehandlung, um einen kristallisierten Abschnitt zu erhalten; und Auflösen und Entfernen des kristallisieren Abschnitts und Anwenden der Feinbearbeitung darauf, um ein photoempfindliches Glassubstrat zu erhalten, wobei beim Bestrahlen eine Bestrahlungsposition des Energiestrahlenbündels basierend auf einer Maßvariation des photoempfindlichen Glases, die durch eine Wärmebehandlung einschließlich wenigstens der ersten Wärmebehandlung verursacht wird, korrigiert wird. |
