聚合物,光致抗蚀剂组合物和形成光刻图案的方法

摘要

聚合物，光致抗蚀剂组合物和形成光刻图案的方法。提供包含具有特定乙缩醛部分的单元的聚合物和包含有这种聚合物的光致抗蚀剂组合物。同样提供光致抗蚀剂组合物涂覆的基体和形成光刻图案的方法。提供了一种聚合物，所述聚合物包括：由下述通式(I)单体形成的第一单元：其中R₁代表氢或C₁到C₃烷基；R₂代表单键或C₁到C₁₀有机基团；R₃代表氢原子或C₁到C₁₀有机基团；R₄各自独立的代表氢原子或C₁到C₁₀有机基团，键合在共有碳原子上的R⁴基团任选一起形成环；以及R₅各自独立代表C₁到C₁₀有机基团，任选一起形成环；以及含有内酯部分的第二单元。

主权项

一种通过负性显影形成光刻图案的方法，所述方法包括：（a）提供基体，所述基体的表面上包括一个或多个待形成图案的层；（b）施加光致抗蚀剂组合物的层到一个或多个待形成图案的层上；（c）将光致抗蚀剂组合物层于光化辐射中图案化曝光；（d）在曝光后烘烤过程中加热曝光的光致抗蚀剂组合物层；以及（e）对光致抗蚀剂组合物层施加有机溶剂显影剂除去光致抗蚀剂层的未曝光区，从而形成光致抗蚀剂图案，所述光致抗蚀剂组合物包括：包括由下述通式（I）单体形成的第一单元的聚合物：其中R₁代表氢或C₁到C₃烷基；R2代表单键、C₁到C₁₀亚烷基或C₂到C₁₀亚烯基；R₃代表氢原子、C₁到C₁₀烷基或C₂到C₁₀烯基；R₄各自独立的代表氢原子、C₁到C₁₀烷基、醛基、烷氧羰基、苄氧基甲基、苯磺酰氧基甲基或甲苯磺酰氧基甲基，键合在共有碳原子上的R⁴基团任选一起形成环；以及R₅各自独立代表C₁到C₁₀烷基或乙酰氧基，任选一起形成环；以及光产酸剂。