发明名称 REFLECTIVE MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME, REFLECTIVE MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要 본 발명은 고감도의 결함검사장치를 이용한 결함검사에 있어서, 기판이나 막의 표면 거칠기에 기인하는 유사 결함 검출을 억제하고, 이물이나 흠집 등의 치명 결함의 발견을 용이하게 하는 것이 가능한 반사형 마스크 블랭크를 제공한다. 마스크 블랭크용 기판의 주표면 위에, 고굴절률층과 저굴절률층을 교대로 적층한 다층 반사막 및 흡수체막을 포함하는 마스크 블랭크용 다층막을 갖는 반사형 마스크 블랭크로서, 상기 반사형 마스크 블랭크 표면에 있어서의 1㎛×1㎛의 영역을 원자간력 현미경으로 측정하여 얻어지는 베어링 에어리어(%)와 베어링 깊이(nm)의 관계에 있어서, (BA-BA)/(BD-BD)≥60(%/nm)의 관계를 충족하고, 또한 최대 높이(Rmax)≤4.5nm인 것을 특징으로 하는 반사형 마스크 블랭크이다.
申请公布号 KR20160055724(A) 申请公布日期 2016.05.18
申请号 KR20157031337 申请日期 2014.08.29
申请人 HOYA CORPORATION 发明人 HAMAMOTO KAZUHIRO;ASAKAWA TATSUO;SHOKI TSUTOMU
分类号 G03F1/24;G03F1/48;G03F1/50;G03F1/54;G03F1/74;G03F1/80;G03F1/84;H01L21/027 主分类号 G03F1/24
代理机构 代理人
主权项
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