带有防阻塞功能的分子检测纳米孔器件及其制作方法

摘要

一种带有防阻塞功能的分子检测纳米孔器件及其制作方法，首先在硅衬底上形成测序用纳米孔阵，再在测序用纳米孔阵的上方形成氮化硅防阻塞孔阵。形成氮化硅防阻塞孔阵的方法包括以下步骤：在形成有测序用纳米孔阵的器件上方双面沉积牺牲层；刻蚀牺牲层形成下一步低应力氮化硅的附着区；在低应力氮化硅附着区上双面沉积LPCVD氮化硅层；刻蚀氮化硅层形成防阻塞孔；最后通过KOH或其他碱腐蚀去除体硅和牺牲层硅。本发明在测序用纳米孔阵的上方制作了防阻塞孔阵，因此在用于分子检测、基因测序时，可防止大于DNA直径的外来颗粒堵塞纳米孔阵，保证分子检测、基因测序的正常进行。由于本发明通过半导体集成方法制作，所以成本低、效果好。

主权项

一种带有防阻塞功能的分子检测纳米孔器件的制作方法，所述器件用于DNA测序或者分子筛选测试，其特征是：所述制作方法首先在硅衬底上形成测序用纳米孔阵，然后在所述测序用纳米孔阵的上方，再通过以下方法形成防阻塞孔阵，用于防止外来颗粒阻塞所述测序用纳米孔阵：在形成有所述测序用纳米孔阵的器件表面双面沉积牺牲层；在所述器件的正面单面刻蚀所述牺牲层，形成下一步低应力氮化硅附着区；在所述器件上双面沉积LPCVD氮化硅层；单面刻蚀所述氮化硅层，形成防阻塞孔；最后通过碱腐蚀去除体硅和所述牺牲层，形成氮化硅防阻塞孔阵。