发明名称 |
气体喷射装置 |
摘要 |
明提供一种即使在具有高深宽比的沟槽之被处理体也可均等地喷射气体至该沟槽内之气体喷射装置。本发明之气体喷射装置(100)具有对被处理体(202)进行气体的喷射之气体喷射单元部(1)。气体喷射单元部(1)具有第一锥体形状构件(3)及第二锥体形状构件(2)。第一锥体形状构件(3)的侧面与第二锥体形状构件(2)的侧面之间形成有间隙(do)。各锥体形状构件(2,3)的顶部侧系面向被处理体(202)。
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申请公布号 |
TW201615283 |
申请公布日期 |
2016.05.01 |
申请号 |
TW104100695 |
申请日期 |
2015.01.09 |
申请人 |
东芝三菱电机产业系统股份有限公司 |
发明人 |
田畑要一郎;渡辺谦资;西村真一 |
分类号 |
B05B1/34(2006.01);C23C16/455(2006.01) |
主分类号 |
B05B1/34(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
洪武雄;陈昭诚 |
主权项 |
一种气体喷射装置,具备有:容器部(100D);气体供给部(101),对前述容器部进行气体的供给;气体喷射单元部(1),配设于前述容器部内,对被处理体(202)进行气体的喷射,前述气体喷射单元部具有:第一锥体形状构件(3);以及第二锥体形状构件(2),配置成从侧面方向围绕前述第一锥体形状构件,且在与前述第一锥体形状构件之间形成有间隙(do),前述第一锥体形状构件的顶部侧及前述第二锥体形状构件的顶部侧系面向前述被处理体,从前述气体供给部所供给的气体,系从前述第一锥体形状构件的底面侧及前述第二锥体形状构件的底面侧侵入前述间隙且通过前述间隙而从前述第一锥体形状构件的顶部侧及前述第二锥体形状构件的顶部侧朝向前述被处理体喷射。
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地址 |
日本 |