| 发明名称 |
微光学结构的制造方法 |
| 摘要 |
微光学结构的制造方法，包含以下步骤：(A)在一基板的表面形成多个相互间隔的光阻层；(B)于基板与光阻层的表面形成一表面处理层，该表面处理层具疏水性或疏油性；(C)移除该等光阻层以及位于该等光阻层表面的该表面处理层；(D)灌注一透光的光学胶材于该基板与未被移除的该表面处理层上，使光学胶材根据表面处理层的疏水性或疏油性，而自动填充于未被移除的表面处理层之间；及(E)固化该光学胶材，而形成多个微光学结构。
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| 申请公布号 |
TWI531051 |
申请公布日期 |
2016.04.21 |
| 申请号 |
TW103102492 |
申请日期 |
2014.01.23 |
| 申请人 |
国立台湾师范大学 |
发明人 |
杨启荣;张淑芳;蔡宗翰;吴思贤 |
| 分类号 |
H01L27/14(2006.01);C09D5/32(2006.01);C09J7/02(2006.01) |
主分类号 |
H01L27/14(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
高玉骏;杨祺雄 |
| 主权项 |
一种微光学结构的制造方法，包含以下步骤：(A1)在一基板的表面形成多个相互间隔的第一光阻层；(B1)于该基板与该等第一光阻层的表面形成一第一表面处理层，该第一表面处理层具疏水性或疏油性；(C1)移除该等第一光阻层以及位于该等第一光阻层表面的该第一表面处理层；(D1)灌注一透光的光学胶材于该基板与未被移除的该第一表面处理层上，使该光学胶材根据该第一表面处理层的疏水性或疏油性，而自动填充于未被移除的该第一表面处理层之间；及(E1)固化该光学胶材，而形成多个微光学结构。
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| 地址 |
台北市大安区和平东路1段162号 |
