发明名称 一种镀膜方法
摘要 提供一种镀膜方法,用于深度摄像装置,所述深度摄像装置用于一电子设备并且包括红外光发射器和红外摄像模块,所述红外光发射器包括红外激光衍射组件,所述方法包括:确定所述红外激光衍射组件在T<sub>special</sub>(℃)时发出的红外光波带通λ<sub>CWL</sub>±R(nm);确定温度对所述激光发射器发射的红外波长的影响系数Δλ/ΔT(nm/℃);确定所述红外激光衍射组件的工作温度范围T<sub>min</sub>~T<sub>max</sub>(℃);计算红外激光衍射组件所发出的红外激光波长范围;确定所述红外摄像模块的主光线角度参数;根据镀膜的参数对于镀膜透射范围的影响,确定对所述镀膜透射的波长范围的影响的漂移值D(nm);计算出镀膜的带通λ<sub>min</sub>~λ<sub>max</sub>+D(nm)。应用了本发明镀膜方法的深度摄像装置更加高效和实用。
申请公布号 CN105510998A 申请公布日期 2016.04.20
申请号 CN201410489913.4 申请日期 2014.09.23
申请人 联想(北京)有限公司 发明人 王竞;李翔
分类号 G02B1/10(2006.01)I 主分类号 G02B1/10(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 安之斐
主权项 一种镀膜方法,用于深度摄像装置,所述深度摄像装置用于一电子设备并且包括红外光发射器和红外摄像模块,所述红外光发射器包括红外激光衍射组件,所述镀膜用于对接收的光进行滤波,所述方法包括:确定所述红外激光衍射组件在T<sub>special</sub>(℃)时发出的红外光波带通λ<sub>CWL</sub>±R(nm),其中λ<sub>CWL</sub>(nm)为中心波长,R(nm)为波长的波动范围;确定温度对所述激光发射器发射的红外波长的影响系数Δλ/ΔT(nm/℃);确定所述红外激光衍射组件的工作温度范围T<sub>min</sub>~T<sub>max</sub>(℃);计算红外激光衍射组件所发出的红外激光波长范围,即在正入射角度下入射所述红外摄像模块的最小和最大的波长λ<sub>min</sub>~λ<sub>max</sub>(nm),其中,λ<sub>min</sub>=λ<sub>CWL</sub>‑R‑(T<sub>special</sub>‑T<sub>min</sub>)*Δλ/ΔT,λ<sub>max</sub>=λ<sub>CWL</sub>+R+(T<sub>max</sub>‑T<sub>special</sub>)*Δλ/ΔT;确定所述红外摄像模块的主光线角度参数;根据镀膜的参数对于镀膜透射范围的影响,确定对所述镀膜透射的波长范围的影响的漂移值D(nm);计算出镀膜的带通λ<sub>min</sub>~λ<sub>max</sub>+D(nm)。
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