| 摘要 |
본 발명은 픽셀들을 갖는 마이크로시스템을 생성하기 위한 방법에 관한 것이며, 이 방법은 실리콘 웨이퍼를 제공하는 단계; 실리콘 웨이퍼의 표면 상에 열적 실리콘 산화물 층들(5, 6)을 생성하는 단계; 산화물(6) 상에 직접 백금 층을 생성하는 단계; 중간 제품을 냉각하는 단계; 픽셀들(7, 8)의 베이스 전극들(8, 12)을 형성하기 위해 픽셀-형 방식으로 백금층을 구성하는 단계; 프레임(3)이 남아있고 산화물 층들(5, 6)에 의해 형성된 멤브레인(4)이 프레임(3)에 의해 팽팽하게 되도록 산화물 층(5)을 등지는 실리콘 웨이퍼의 측(side) 상에서 물질을 제거하는 단계; 및 마이크로시스템(1)을 마무리하는 단계를 포함한다. |
