发明名称 多层压电薄膜悬臂梁传感器及制备方法
摘要 本发明提供了一种多层压电薄膜悬臂梁传感器及制备方法,采用牺牲层释放工艺,从正面释放牺牲层,来形成压电微悬臂梁结构,充分利用普遍采用的CMOS工艺完成,工艺简单可控,提高了压电悬臂梁传感器制造工艺与硅集成电路工艺的兼容性,避免了体硅衬底用湿法刻蚀从背面释放悬臂梁工艺中的污染问题。并且,采用多层压电薄膜和柔性支撑层,增大了传感器的灵敏度或执行器的变形幅度,提高了悬臂梁对外部激励的响应和信号输出。另外,采用柔性支撑层,简化了传感器结构和加工工艺,采用此结构的压电微传感器可以应用在任意尺寸,任意形状表面的物体上,扩展了微传感器的应用范围。
申请公布号 CN105428519A 申请公布日期 2016.03.23
申请号 CN201510953113.8 申请日期 2015.12.17
申请人 上海集成电路研发中心有限公司;成都微光集电科技有限公司 发明人 杨冰;周伟;肖慧敏;陈力山;张莉玮
分类号 H01L41/083(2006.01)I;H01L41/277(2013.01)I 主分类号 H01L41/083(2006.01)I
代理机构 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人 吴世华;尹英
主权项 一种多层压电薄膜悬臂梁传感器,位于半导体衬底上,其特征在于,包括:在半导体衬底中的空腔;位于部分所述半导体衬底表面和部分所述空腔上的柔性支撑层;位于所述柔性支撑层上的堆叠结构,所述堆叠结构包括:下电极和上电极;在所述下电极和所述上电极之间具有多个压电薄膜层,且相邻的压电薄膜层之间具有中间电极;覆盖于所述上电极上表面、所述堆叠结构的侧壁、以及部分所述半导体衬底表面的阻挡层;所述阻挡层具有释放孔,所述释放孔与所述空腔相连通。
地址 201210 上海市浦东新区上海浦东张江高斯路497号