曝光方法及装置、以及元件制造方法

摘要

包含X编码器与Y编码器中至少各1个之3个编码器，测量载台(WST)于移动面内之位置资讯。根据载台(WST)之位置测量值，将用于位置测量之编码器，从编码器(Enc1、Enc2及Enc3)切换为编码器(Enc4、Enc2及Enc3)。于切换时，适用座标连接法法或相位连接法来设定新使用之编码器(Enc4)之初期值。据此，即使依序切换用于载台(WST)位置测量之编码器，亦能在切换前后保存载台之位置测量值，正确地2维驱动载台。

主权项

一种曝光装置，透过投影光学系统使基板曝光，其具备：基板载台，保持该基板；驱动系统，驱动该基板载台；测量系统，具有对与正交于该投影光学系统之光轴之既定面实质地平行配置之格子部分别从与该既定面交叉之方向照射测量光束之复数个读头，测量在该既定面内彼此正交之第1、2方向之该基板载台之位置资讯；以及控制装置，根据该测量系统所测量之位置资讯控制该驱动系统对该基板载台之驱动，且为了将使用该复数个读头中与该格子部对向之3个读头之该基板载台之驱动控制，切换成使用取代该3个读头中之1个而包含与该3个读头相异之另一读头之3个读头之该基板载台之驱动控制，系根据藉由该切换前所使用之该3个读头测量之位置资讯，决定藉由该另一读头测量之位置资讯；该控制装置，能切换在该另一读头之计数值及相位偏差中仅再设定该计数值之第1决定法与再设定该计数值及该相位偏差之第2决定法来执行用于该驱动控制之切换之该位置资讯之决定。