| 摘要 |
Elektronenmikroskopiesystem zur Erzeugung einer Abbildung eines in einer Objektebene (7a) anordenbaren Objekts (3a), beinhaltend:
- eine Strahlweiche (21a) zur Trennung eines Strahlengangs eines Primärelektronenstrahls (11a) von einem Strahlengang eines Sekundärelektronenstrahls (13a),
- eine Elektronenquelle (5a) zur Erzeugung des Primärelektronenstrahls (11a),
- eine im Strahlengang des Primärelektronenstrahls (11a) hinter der Strahlweiche (21a) angeordnete Objektivlinse (17a) zum Führen des Primärelektronenstrahls (11a) auf die Objektebene (7a) und zur Führung von aus einem Bereich um die Objektebene (7a) ausgehenden Sekundärelektronen als Sekundärelektronenstrahl (13a) hin zu der Strahlweiche (21a),
ferner beinhaltend einen Energieselektor (27a), welcher in dem Strahlengang des Primärelektronenstrahls (11a) zwischen der Elektronenquelle (51a) und der Strahlweiche (21a) vorgesehen ist und welcher geladene Teilchen des Primärelektronenstrahls (11a), deren kinetische Energie in einem vorbestimmten Energiebereich liegt, transmittiert und geladene Teilchen, deren kinetische Energie außerhalb des vorbestimmten Energiebereichs liegt, im Wesentlichen nicht transmittiert, wobei der Energieselektor (27a) eine Magnetpolanordnung (29a, 30a, 31a, 32a) mit einer Mehrzahl von Magnetpolpaaren aufweist, und wobei zwischen einem jeden Magnetpolpaar ein Magnetfeld zur Ablenkung der von dem Energieselektor transmittierten geladenen Teilchen bereitgestellt ist, wobei die Strahlweiche (21a) wenigstens ein Magnetpolpaar des Energieselektors (27a) umfasst, und
wobei im Strahlengang des Sekundärelektronenstrahls (13a) hinter der Strahlweiche (21a) wenigstens ein Strahlablenker (63a, 65a) oder/und wenigstens eine Quadrupollinse (61a) angeordnet ist. |
