以奈米线为主之透明导体及其图案化方法

摘要

明描述图案化以奈米线为主之透明导体之方法。详言之，该等方法系关于产生低可见度或不可见图案之部分蚀刻。

主权项

一种光学均匀透明导体，其包含：基板；于该基板上之导电薄膜，该导电薄膜包括复数个互连奈米结构，其中于该导电薄膜上之图案界定(1)具有第一电阻率、第一透射率及第一浊度之经蚀刻区域，及(2)具有第二电阻率、第二透射率及第二浊度之未经蚀刻区域；且其中该经蚀刻区域之导电性小于该未经蚀刻区域，该第一电阻率与该第二电阻率之比率为至少1000；该第一透射率与该第二透射率之差异小于5%；该第一浊度与该第二浊度之差异小于0.5%。