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Die Erfindung betrifft einen Spiegel für eine mikrolithographische Projektionslichtungsanlage sowie ein Verfahren zur Bearbeitung eines Spiegels. Ein erfindungsgemäßer Spiegel für eine mikrolithographische Projektionslichtungsanlage weist eine optische Wirkfläche (100a), ein Spiegelsubstrat (101) und ein Schichtsystem zur Reflexion von auf die optische Wirkfläche (100a) auftreffender EUV-Strahlung auf, wobei der Spiegel als oberste Schicht in Richtung der optischen Wirkfläche eine Antibenetzungsschicht (115) aufweist, welche im Betrieb eine Benetzung der optischen Wirkfläche (100a) durch das Targetmaterial im Vergleich zu einem analogen Spiegel ohne die Antibenetzungsschicht (115) reduziert. |
