| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein abbildendes optisches System (22), insbesondere ein Projektionsobjektiv, für die Mikrolithographie mit optischen Elementen (30, 32) zum Abbilden eines Musters (12) aus einer Objektebene (26) in eine Bildebene (28). Das optische System (22) enthält einen Alvarez-Manipulator (34) mit mindestens zwei Alvarez-Platten (36, 38) zur Korrektur von Abbildungsfehlern. Weiterhin weist das optische System (22) ein optisches Korrekturelement (32) mit einer zur Korrektur von durch den Alvarez-Manipulator (34) induzierten Wellenfrontfehlern ausgebildeten optischen Fläche (42) auf. Das optische Korrekturelement (32) ist derart im Strahlengang des optischen Systems (22) angeordnet, dass eine betragsmäßige Abweichung eines Mittelwerts der Quotienten aus Hauptstrahlhöhe zu Randstrahlhöhe von einander zugewandten Plattenoberflächen (44, 46) von zwei benachbarten Alvarez-Platten (36, 38) von einem Quotienten aus Hauptstrahlhöhe zu Randstrahlhöhe der zur Korrektur ausgebildeten optischen Fläche (42) weniger als 10% beträgt. Ferner betrifft die Erfindung ein entsprechendes Verfahren zum optischen Design eines abbildenden optischen Systems für die Mikrolithographie. |
