| 摘要 |
<p>Verfahren zum Herstellen eines Maskenrohlings, der als ein Material einer Musterübertragungsmaske verwendet wird, mit einem Substrat (1) und einer Dünnschicht, die mit einem Übertragungsbelichtungslicht in einer optischen Beziehung steht, umfassend: Bilden der Dünnschicht auf der Oberfläche des Substrats (1); und Bilden einer Staubschutzschicht (5) aus einem Material, das durch ein Lösungsmittel entfernt werden kann, das die Dünnschicht nicht nachteilig beeinflußt, derart, dass die Dünnschicht von der Staubschutzschicht (5) bedeckt ist; wobei der an der Umfangskante des Substrats (1) gebildete unnötige Teil der Staubschutzschicht (5) durch das Lösungsmittel entfernt wird, wodurch verhindert wird, dass an der Oberfläche des Maskenrohlings selbst Fremdstoffe direkt anhaften, wodurch eine Beschädigung im nachfolgenden Schritt verhindert wird, und wobei die Staubschutzschicht (5) durch das Lösungsmittel entfernt wird, wenn die Musterübertragungsmaske aus dem Maskenrohling hergestellt wird.</p> |
