| 发明名称 | 二维六角形晶格化合物制造用轧制铜箔和二维六角形晶格化合物的制造方法 | ||
| 摘要 | [课题]提供可低成本且高品质地生产石墨烯等的二维六角形晶格化合物的轧制铜箔以及使用其的二维六角形晶格化合物的制造方法。[解决方案]二维六角形晶格化合物制造用轧制铜箔，其中，含有P：0.01～0.21wt%、Fe：0.006wt%以下，余部包含Cu和不可避免的杂质，在1000℃加热30分钟后、轧制面的由X射线衍射求得的111衍射强度（I），与微粉铜的由X射线衍射求得的111衍射强度（I<sub>0</sub>）之比为2.0≤（I/I<sub>0</sub>）。 | ||
| 申请公布号 | CN105274382A | 申请公布日期 | 2016.01.27 |
| 申请号 | CN201510321784.2 | 申请日期 | 2015.06.12 |
| 申请人 | JX日矿日石金属株式会社 | 发明人 | 千叶喜宽 |
| 分类号 | C22C9/00(2006.01)I;C22F1/08(2006.01)I;C23C16/01(2006.01)I;C23C16/34(2006.01)I;C23C16/26(2006.01)I | 主分类号 | C22C9/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 梅黎;刘力 |
| 主权项 | 二维六角形晶格化合物制造用轧制铜箔，其含有P：0.01～0.21wt%、Fe：0.006wt%以下，余部包含Cu和不可避免的杂质，在1000℃加热30分钟后、轧制面的由X射线衍射求得的111衍射强度（I），与微粉铜的由X射线衍射求得的111衍射强度（I<sub>0</sub>）之比为2.0≤（I/I<sub>0</sub>）。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||