位置检测装置、曝光装置以及元件制造方法

摘要

本发明提供一种面位置检测装置，可抑制棱镜构件的内面反射面所全反射的光束所产生的藉由偏光成分而引起的相对性的位置偏移对被检面的面位置的检测所造成的影响，并且可高精度地检测被检面的面位置。投射系统以及受光系统之中的至少一者包括全反射棱镜构件(7；8)，该全反射棱镜构件(7；8)具有用以使入射光束全反射的内面反射面(7b、7c；8b、8c)。为了抑制在全反射棱镜构件的内面反射面所全反射的光束的藉由偏光成分而引起的相对性的位置偏移对被检面(Wa)的面位置的检测所造成的影响，而设定形成全反射棱镜构件的光学材料的折射率与相对于全反射棱镜构件的内面反射面的入射光束的入射角满足规定关系。

主权项

一种位置检测装置，包括：投射系统，将光投射于被检面；以及受光系统，接受由上述被检面所反射的上述光；且根据上述受光系统的输出检测关于上述被检面的位置的资讯，上述位置检测装置的特征在于，包括：棱镜构件，配置上述投射系统以及上述受光系统之中的至少一者的光路中，且具有用以使上述光全反射的第1全反射面和第2全反射面，且构成上述棱镜构件的光学材料的折射率、与对于上述第1全反射面和第2全反射面的上述光的入射角是设定成使上述第1全反射面所全反射的上述光的藉由偏光成分而引起的相对的位置偏移量的大小、与上述第2全反射面所全反射的上述光的藉由偏光成分而引起的相对的位置偏移量的大小至少一部份互相抵消。