发明名称 |
一种普鲁士蓝及类普鲁士蓝纳米片薄膜材料及其原位制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种普鲁士蓝及类普鲁士蓝纳米片薄膜材料及其原位制备方法。本发明以聚丙烯胺盐酸盐(PAH)和聚苯乙烯磺酸钠(PSS)两种带相反电荷的高分子聚合物修饰基片,以金属离子盐和亚铁氰化钾为原料,在修饰后的基片上原位合成普鲁士蓝或类普鲁士蓝方形纳米片。所制备的纳米片薄膜经紫外-可见光谱、扫描电子显微镜、透射电子显微镜测试,纳米片尺寸可控,分散均匀。高分子聚合物的多孔网络限制了纳米片的生长方向,使其呈正方形或长方形,在整个薄膜制备过程中均使用水作为溶剂,对环境无害,且制备工艺简单易行,成本低廉,设备简单,可通过改变简单离子的种类得到不同功能性的薄膜材料,将在材料制备领域得到重要的应用。 |
申请公布号 |
CN105271825A |
申请公布日期 |
2016.01.27 |
申请号 |
CN201510703859.3 |
申请日期 |
2015.10.27 |
申请人 |
上海第二工业大学 |
发明人 |
王金敏;兰阳 |
分类号 |
C03C17/42(2006.01)I;C04B41/52(2006.01)I |
主分类号 |
C03C17/42(2006.01)I |
代理机构 |
上海正旦专利代理有限公司 31200 |
代理人 |
王洁平 |
主权项 |
一种普鲁士蓝及类普鲁士蓝纳米片薄膜材料的原位制备办法,其特征在于,包括以下步骤:①将聚丙烯胺盐酸盐PAH和聚苯乙烯磺酸钠PSS分别溶于去离子水中,分别制得PAH水溶液和PSS水溶液;②将干净的基片依次于PAH水溶液和PSS水溶液中交替浸渍, 一次PAH和PSS的修饰称为一个修饰循环,完成若干次PAH和PSS的修饰循环后,得到经两种高分子聚合物修饰的基片;③将步骤②得到的高分子聚合物修饰的基片于酸性金属盐溶液中浸渍、洗涤、干燥后,再于酸性K<sub>4</sub>[Fe(CN)<sub>6</sub>]·3H<sub>2</sub>O溶液中浸渍、洗涤和干燥,完成一次吸附‑沉淀循环;④重复步骤③,完成若干次吸附‑沉淀循环,制得普鲁士蓝及类普鲁士蓝纳米片薄膜材料;其中:步骤③中金属盐溶液为铁盐、铜盐或镍盐溶液中的任意一种;所述酸性金属盐溶液和酸性K<sub>4</sub>[Fe(CN)<sub>6</sub>]·3H<sub>2</sub>O溶液的浓度相同,其摩尔浓度在0.005mol/L~0.04mol/L之间。 |
地址 |
201209 上海市浦东新区金海路2360号 |