与上涂光阻合用之涂覆组成物

摘要

明系提供一种与上涂光阻合用之涂覆组成物，其中，该涂覆组成物系包含树脂，该树脂系含有三聚氰酸酯基及疏水性基团。该涂覆组成物能增进上涂光阻浮雕影像之解析度。

主权项

一种与上涂光阻合用之涂覆组成物，该涂覆组成物系包含树脂，该树脂系包含三聚氰酸酯基及1至40重量百分比的疏水性基团，其中该三聚氰酸酯基具有卤素取代，其中该疏水性基团系选自羟基及醚，其中该树脂系自包含三聚氰酸酯化合物之试剂制备，该三聚氰酸酯化合物系包含藉由区别之羧基及/或羧酸酯基于多个三聚氰酸酯氮环原子之取代，以及其中该三聚氰酸酯化合物构成该树脂之总重复单元的至少5至55%。