发明名称 |
光阻脱除剂和电子元件及其制造方法 |
摘要 |
光阻脱除剂,包括由式1表示的醇醚类化合物、选自由式2表示的化合物、式3表示的化合物及其混合物所组成的族群的极性溶剂以及至少一种由式4表示的二级醇胺或三级醇胺:
,其中
n为1~3的整数;R1为C1-C4烷基;R2各自独立为氢或甲基;X1和X2可分别为C1-C4伸烷基、C2-C4伸烯基、>Rx-COOH或>RyOH,其中Rx为C1-C3连结基,Ry为C1-C4连结基;R3为H、C1-C4烷基或-RzOH,其中
Rz为C1-C4连结基;R4和R5分别为C1-C4伸烷基,且Y1和Y2可分别为H或-OH。
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申请公布号 |
TWI518467 |
申请公布日期 |
2016.01.21 |
申请号 |
TW102141666 |
申请日期 |
2013.11.15 |
申请人 |
达兴材料股份有限公司 |
发明人 |
朱翊祯;卢厚德 |
分类号 |
G03F7/42(2006.01);H01L21/311(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/42(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
詹铭文;叶璟宗 |
主权项 |
一种光阻脱除剂,包括:醇醚类化合物,由式1表示;极性溶剂,选自由式2表示的化合物、式3表示的化合物及其混合物所组成的族群;以及至少一种二级醇胺或至少一种三级醇胺,由式4表示;
,其中
n为1~3的整数,R1为C1-C4烷基,R2各自独立为氢或甲基,X1和X2分别为C1-C4伸烷基、C2-C4伸烯基、>Rx-COOH或>RyOH,其中Rx为C1-C3连结基,Ry为C1-C4连结基,R3为H、C1-C4烷基或-RzOH,其中Rz为C1-C4连结基,R4和R5分别为C1-C4伸烷基,且Y1和Y2分别为H或-OH,
其中以该光阻脱除剂的总量计,该二级醇胺或该三级醇胺占1重量%~20重量%,该醇醚类化合物占25重量%~50重量%,该极性溶剂占30重量%~70重量%。
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地址 |
台中市中部科学工业园区科园一路15号 |