发明名称 |
用于处理晶圆和裸片的方法 |
摘要 |
本发明涉及一种用于对晶圆或裸片上的面进行处理的方法,包括下述步骤:a)提供晶圆或裸片,b)将晶圆或裸片放置在底座上,c)围绕待清洁的面提供用于环绕边界的材料,d)施加用于环绕边界的材料,使得围绕待清洁的面形成凹部,液体不能从所述凹部中流出,以及e)用处理液填充所述凹部。 |
申请公布号 |
CN103238211B |
申请公布日期 |
2016.01.20 |
申请号 |
CN201180057666.5 |
申请日期 |
2011.11.30 |
申请人 |
薄型材料公司 |
发明人 |
马德琳·皮耶卡斯;维尔纳·帕姆勒;安德烈亚斯·格罗斯;安德烈亚斯·卢伊布勒;弗朗茨·里克特 |
分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
张春水;田军锋 |
主权项 |
用于对晶圆的或裸片的表面进行处理的方法,包括以下步骤:a)提供晶圆或裸片,b)将所述晶圆或所述裸片放置在底座上,c)围绕待处理的所述表面提供用于环绕边界的材料,d)施加用于所述环绕边界的所述材料,使得围绕待处理的所述表面形成凹部,液体不能够从所述凹部中流出,以及e)用处理液填充所述凹部,其中所述处理包括清洁,并且其中在步骤d)之后施加用于所述环绕边界的所述材料,使得存在从所述边界的上边缘朝向要清洁的表面下降的斜面。 |
地址 |
德国艾歇瑙 |