| 摘要 |
プラズマ処理装置ＰＭ１は、プラズマ処理空間Ｓを画成する処理容器１２と、被処理基板Ｗの設置用のステージ１４と、プラズマ反応に用いられる処理ガスをプラズマ処理空間Ｓへ導入するガス供給系３８等とを備える。また、プラズマ処理装置ＰＭ１は、処理ガスをプラズマ化するための電磁エネルギーを供給するマイクロ波発生器１６を備える。また、プラズマ処理装置ＰＭ１は、処理容器１２の外部の基板搬入ステージに設置された被処理基板Ｗに対するプラズマ処理開始の指令が発行されて被処理基板Ｗが処理容器１２内へ搬送されている間に、ウェーハレスの状態で、処理ガスを供給するとともに電磁エネルギーを供給するウォームアップ処理を行う制御部１００を備える。 |
