| 发明名称 |
APPARATUS AND TECHNIQUES FOR CONTROLLING ION IMPLANTATION UNIFORMITY |
| 摘要 |
이온 주입기내 이온 빔을 제어하는 시스템은 이온 빔의 전파 방향에 수직인 제 1 방향을 따라서 이온 빔의 복수개의 빔 전류 측정을 수행하는 검출기를 포함한다. 시스템은 또한 복수개의 빔 전류 측정에 기초하여 빔 전류 프로파일을 결정하는 분석 컴포넌트, 빔 전류 프로파일은 제 1 방향을 따라서 빔 전류 변화를 포함하고; 및 빔 높이가 임계값 아래인 것을 빔 전류 프로파일이 나타낼 때 제 1 방향을 따라서 이온 빔의 높이를 조정하는 조정 컴포넌트를 포함한다. |
| 申请公布号 |
KR20160005085(A) |
申请公布日期 |
2016.01.13 |
| 申请号 |
KR20157034315 |
申请日期 |
2014.05.02 |
| 申请人 |
VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. |
发明人 |
TODOROV STANISLAV S.;GAMMEL GEORGE M.;SPRENKLE RICHARD ALLEN;HUSSEY NORMAN E.;SINCLAIR FRANK;CHANG SHENGWU;OLSON JOSEPH C.;TIMBERLAKE DAVID ROGER;DECKER LUCKE KURT T. |
| 分类号 |
H01J37/304;C23C14/48;C23C14/54;G21K5/00;H01J37/317 |
主分类号 |
H01J37/304 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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